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PECVD-300型等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
編號:SN20151013154839762
類別:PECVD系列等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        本設備采用等離子體增強化學氣相沉積技術,在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,用以制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件??曬惴河τ糜詿笞ㄔ盒?、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

     

    設備組成

        該系統主要由真空反應室、上蓋組件、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。

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